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VLSI技术国际会议 交大教授庄绍勋团队风靡全场

交通大学教授庄绍勋
。(交通大学提供)

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【大澳门威尼斯人赌场官网2017年06月09日讯】(大澳门威尼斯人赌场官网记者赖月贵台湾新竹报导)为期五天的“2017IEEE VLSI Technology and Circuits Symposium”国际会议,于6月5日起在京都举行。交通大学教授庄绍勋研究团队发表一篇与台湾师大、联电共同研究的14奈米鳍式电晶体(FinFET)嵌入型电阻记忆体,风靡全场。

现有晶圆代工厂的嵌入式记忆体技术多停留在28nm以上的节点(如40奈米逻辑制程),盖因28奈米及以下技术,都改用high-k/Metal-gate技术,要将传统浮闸记忆体或SONOS记忆体与28奈米以下先进逻辑技术整合不易,因此,庄绍勋论文率先提出将记忆体与先进14奈米FinFET逻辑技术整合在一起,本项发明尚属世界首屈一指。

会议分为二个部分,一为VLSI Technology Symposium,另一为VLSI Circuits Symposium。前者共发表72篇论文(含8篇邀请论文),后者发表115篇论文。参与人数超过千人,创有史以来新高。

此次VLSI Technology Symposium投稿160篇,被接受的论文,美国15篇,日本10篇,比利时、台湾与韩国各有8篇。台湾上榜的论文,交大及台积电各3篇,奈米国家实验室一篇,清大一篇。最重要的是交通大学与东京大学为全球各大学发表论文数同列第一,然而由交大庄绍勋教授带领的团队论文,名列“全球学术界最佳论文”,与Samsung、IBM、Globalfoundries另三篇一同获选highlight session论文。

庄绍勋表示,台湾虽然拥有傲视全球的半导体产业,但整体论文发表数量仍不够多。他极力建议,台湾各大学院校应加强与产业界的合作,运用先进的业界制程设备讲究创新,才有可能在研发质量上与世界知名大学及知名半导体公司力拼。

庄绍勋指出,VLSI技术国际会议缘起于1980年,由美国IEEE EDS及日本最大的应用物理学会(The Japan Society of Applied Physics)联合发起,偶数年于美国夏威夷举行,奇数年于日本举行。该会议被视为半导体制程、元件技术发展的指标,是VLSI领域技术发表的期舰会议(flagship conference),上榜的论文有些比权威的IEDM会议还困难。长期以来,此一国际会议一直扮演半导体VLSI高科技电子IC相关产业火车头的角色,因此每年都吸引世界各大半导体厂的菁英前来参与盛会。

该研讨会今年的重点,除了先进逻辑元件制程技术外,在先进的记忆体技术论文也不遑相让。先进逻辑元件制程技术是CPU、GPU、绘图晶片、通讯IC、消费性电子如手机、汽车用记忆体、讯号处理IC等的核心技术,目前已到7奈米技术将进入可以量产的阶段,该会议还探讨了5奈米的FinFET技术,但因微影术的现制,制程技术,仍赶不上微缩(scaling)的需求。另外,物联网(IoT)及穿戴式装置,如何提供低功耗的设计,也成为近期的重点。

此次的会议,除了更小尺寸的先进逻辑制程技术,也强化仿生运算及相关记忆体、Quantum computing等,汽车自动驾驶未来在硬体发展的需求。

责任编辑:郑桦

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