【大紀元2月28日訊】(中央社記者何易霖新竹二十八日電)美商應用材料公司（Appalied Materials）宣布推出採用微距量測掃瞄式電子顯微鏡（CD-SEM）技術的高產能「VeritySEM」量測系統，使得微影控制與蝕刻製程的能力都有重大的改善，並能協助客戶有效節省成本。這套系統已獲亞洲、北美及歐洲等地晶圓廠採用。

應材表示，在邁向下一個世代的元件製程時，客戶除了面臨更先進技術和製程控制的挑戰外，同時也需要簡化12吋晶圓廠的晶圓製程（WIP－Wafer in Process）。VeritySEM量測系統採用新式的掃瞄式電子顯微鏡技術，對於65-45奈米的元件結構，嚴格監控氬氟（ArF）光阻結構、導線邊緣的平滑度和形狀，精確度達到小於5埃。

應材進一步指出，VeritySEM量測系統中所具備的新掃瞄式電子顯微鏡技術，在超低電壓下 (200eV)，能提供小於1.8奈米的解析度，以及無變形的大視野掃瞄功能，並能協助量測45奈米產品的閘極和小於5埃精確度的氬氟（ArF）光阻結構設計。而創新多變的電子束電流控制模組可以改善信號干擾比率，促使更快且更紮實的製程自動化運作，進而提昇產能。

此外，在誤差1奈米範圍之內，各種VeritySEM系統在同一晶圓廠內或不同晶圓廠之間都能相通，客戶使用時，所消耗的營運成本將比使用市面上其他的CD-SEM系統減少1/3的費用。

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