(//www.tvsmo.com)

【大紀元5月30日訊】 在芯片功能不斷提高的今天，目前使用的平版印刷技術將在今后十年將走到其發展的盡頭，如果無法取得新的突破，這將使人類信息時代的發展步伐大大受挫。今年4月11日，由英特爾公司牽頭，美國各大公司、國家實驗室和學術机构參与的一項新的平版印刷技術已經初露端倪。

據天極網報道﹐芯片印刷的原理是利用光投射到硅片上面一層感光的外層上面，光投射的地方感光層將變硬，其余的地方被除去之后，硅片上將出現迷宮一樣的細微電路，再經過近一步的處理，芯片上將出現數以百万計的電路連接与半導線路。芯片印刷的關鍵是對使用光顏色与波長的控制，波長越短，“印出”的電路就越細，越清晰。

目前芯片的電路印制在硅片上使用的是光印刷技術，這使得電路的寬度只有0.13微米或130納米，它相當于一根頭發粗細的八百分之一。而新的技術將使用弱X光或者更為精确地被稱作超紫外線(EUV)，由它印制出的電路寬度將只有35納米或者更細，這將使至少未來二十年內微電子技術的發展沒有任何阻礙。

現在世界所有同行的目光都集中在了EUV原型印刷机上，目前這一机器已在美國的桑迪亞國家實驗室制造成功，這是近13年、耗資2.5億美元的研究成果。這一新型印刷机器的推出將對市場造成巨大影響，如果英特爾公司獲得成功的話，那么日本主要的平版印刷机器生產厂家尼康与佳能將失去近54億美元的芯片印刷設備市場。

英特爾公司表示，他們預計在2005年就能推出這一新的EUV芯片印刷机器，每部机器的售价將達到四千万美元，由這种机器印制出的芯片將使今天的奔騰芯片看起來非常落后，因此這一新技術的應用將使英特爾的競爭對手處于十分不利的地位。(//www.dajiyuan.com)